SCREEN

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

FASSE News


FASSE News 一覧

第29回 インターフェックス ジャパン出展のご案内

拝啓 時下ますますご健勝のこととお慶び申し上げます。
FASSEは、6月29日から7月1日まで東京ビッグサイトにて開催される「第29回 インターフェックス ジャパン」において、製薬業界に向けた静電気除去装置を出展致します。
会場では、長年にわたる半導体製造装置開発で培ったノウハウを錠剤製造に活かした、打錠後の原料粉末付着を効果的に取り除く「錠剤用粉取機」をご紹介します。
また、樹脂成型ラインで発生する微細粉を効果的に除去し、製品の炭化不良率を大幅に低減する「樹脂ペレット用粉取機」も実機展示いたします。
この機会にぜひ、SCREENホールディングス、菊水製作所様の各ブースへお越しいただき、新発想のテクノロジーをご覧ください。

展示会情報

[会 期] 2016年6月29日(水)~7月1日(金) 10:00~18:00
※最終日17:00まで
[会 場] 東京ビッグサイト
[ブース] 東3ホール 原料加工ゾーン3-18(SCREENホールディングスブース)
東3ホール 原料加工ゾーン4-26(菊水製作所様ブース)

出展内容

樹脂成型ラインの炭化不良を大幅にカット!


特 長

  • 樹脂ペレット、マスターバッチ、成形品端材の粉砕材などの粉取りに最適。
  • 除電機と、独自のふるい落とし機構の組み合わせで、粉末付着を徹底除去。
  • 1mm以下の微細粉も確実に除去。
  • 既存機に比べて炭化不良発生率を60削減し、歩留まり率を大幅に向上

 

 

錠剤成型後に付着した粉末を除電&除去!

特 長

  • OD錠の粉取りに最適。
  • 錠剤表面の静電気を除電し、粉末付着力を軽減。
  • 新発想の粉取り機構で、粉末を効果的に除去し、集塵。
  • 装置内の粉末も、除電プロセスで除去でき、簡単メンテナンス。

PAGE TOP